Samsung описала вдосконалену 8-нм платформу 8LPU+ у технічному матеріалі для конференції IEDM 2026. За наведеними показниками, порівняно з попередньою 8LPU швидкодія зростає на 12%, енергоспоживання зменшується на 15%, а площа чипа — на 8%.

Samsung готує 8LPU+: оновлений 8-нм техпроцес для ШІ та роботів

Джерело фото: ITHome

Платформа використовує DUV-літографію без EUV і призначена для периферійного ШІ, робототехніки та автомобільної електроніки. Окремо описані рішення для зниження витоків струму в режимі очікування.

Це заявлені характеристики виробничої платформи, а не результати тестування готового споживчого пристрою. Докладну доповідь заплановано на IEDM у грудні; строків появи конкретних чипів у повідомленні немає.